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基于信噪比的MEMS壓力傳感器設(shè)計與分析0 引言 MEMS壓阻式壓力傳感器以其小體積、低成本、高性能等優(yōu)勢,被廣泛應(yīng)用于電器制造、汽車工業(yè)、生物醫(yī)療、氣象觀測以及航空航天等各項領(lǐng)域 。 MEMS壓阻式壓力傳感器的研究主要集中在傳感器靈敏度、 線性度以及量程等幾個方面,隨著測量要求的提升,對傳感器的分辨率提出了更高的要求。 噪聲的大小決定了傳感器的最小可檢測信號,這是影響壓力傳感器性能的重要因素之一。 為了探究MEMS壓力傳感器壓敏電阻結(jié)構(gòu)對信噪比的影響,本文進行了基于MEMS硅壓阻式壓力傳感器結(jié)構(gòu)的設(shè)計和分析。 首先使用ANSYS仿真, 探究各結(jié)構(gòu)傳感器加壓下的應(yīng)力分布,通過仿真數(shù)據(jù) 計算得到各結(jié)構(gòu)的傳感器噪聲與信噪比。 隨后使用SOI(絕緣體上硅) 制作部分傳感器芯片,通過部分刻蝕SOI 硅膜引入了凸起的壓敏電阻形成惠斯登電橋結(jié) 構(gòu),比較輸出信號的噪聲和信噪比,從而論證仿真理論分析的正確性,得到傳感器噪聲、信噪比與其結(jié)構(gòu)的關(guān)系。 本文研究結(jié)果對高信噪比MEMS壓阻式壓 力傳感器的結(jié)構(gòu)設(shè)計具有一定參考價值。 1 MEMS傳感器結(jié)構(gòu)設(shè)計與模擬仿真 1.1 MEMS 傳感器結(jié)構(gòu)設(shè)計 本文提出的MEMS壓阻式壓力傳感器結(jié)構(gòu)如圖 1所示。 為提高傳感器的靈敏度,采用SOI硅片制作了凸起的傳感器壓敏電阻結(jié)構(gòu)。 傳感器有不同電阻長度 l、折疊條數(shù)n的各種壓敏電阻結(jié)構(gòu),如 U 型、N 型、 W 型、以及VW 型。 圖1為單條型壓敏電阻組成的傳 感器,凸起的壓敏電阻R1 和 R2 、R3 和 R4 兩兩對稱,形成惠斯登電橋,相對位置的鋁盤同為輸入端或輸出端,通電下傳感器將外加壓力信號轉(zhuǎn)化為電壓值輸出。 圖 1 MEMS硅壓阻式壓力傳感器結(jié)構(gòu) 壓敏電阻阻值在應(yīng)力作用下發(fā)生變化,由于應(yīng)變 效應(yīng)引起的電阻率變化遠小于壓阻效應(yīng)帶來的電阻率變化 ,其阻值變化率可近似表示為 式中:R 為初始電阻;ΔR 為應(yīng)力作用下電阻阻值變化 量;ρ 為電阻率;Δρ 為電阻率變化量;π 為壓阻系數(shù);σ 為應(yīng)力。 本文的 P 型壓敏電阻的摻雜濃度為 1017 cm -3 ,對 應(yīng)的電阻率約 0.202 Ω·cm。 因為在 μm 厚度的應(yīng)變薄膜上,壓阻條受到的剪 切向應(yīng)力很小,所以式(1)可化為 式中:πl 與 πt 分別為縱向、橫向壓阻系數(shù),πl = 73.5× 10 -11 Pa -1 ,πt = - 67. 8 × 10 -11 Pa -1 ;σl 與 σt 為對應(yīng)縱 向、橫向應(yīng)力。 理想條件下,各電阻初始阻值、對稱位置電阻阻值變化率相等,R1 = R2 = R3 = R4 = R,ΔR1 = ΔR2 ,ΔR3 = ΔR4 ,以左下角和右上角鋁盤為輸入端,左上角和右下 角鋁盤為輸出端,在輸入電壓Vin條件下,輸出電壓Vout可表示為 式中 σR1x、σR1y、σR3x、σR3y分別為圖1中電阻 R1 、R3 在 x、y 方向上的應(yīng)力。為保證傳感器輸出信號的線性度與靈敏度,需要選擇合適的膜片厚度。 膜片過厚會降低靈敏度,過薄會降低線性度與抗負載能力。 考慮到加工工藝水平, 本文選取膜片厚度h為20μm。 在0~300kPa 滿量程 范圍內(nèi),傳感器膜片邊長a和厚度h需滿足下式: 式中:P 為外加氣壓大小; E 為硅的彈性模量, E=170 GPa;v 為泊松比,v= 0.278。 根據(jù)式( 4) 計算可得彈性方形敏感膜片的長度 ≤1184μm,本文選取的膜片邊長為900μm。 本文制 作傳感器使用SOI硅襯,厚度650μm,根據(jù)濕法腐蝕角度為57.74°,計算得C型硅杯窗口的大小為1172μm, 選取的傳感器芯片尺寸為3000μm×3000μm。 1.2 有限元建模與仿真分析 為研究各結(jié)構(gòu)設(shè)計的可行性與輸出變化,利用ANSYS有限元分析軟件對各結(jié)構(gòu)MEMS壓阻式壓力傳感器進行建模與仿真分析。 在本文中壓敏電阻材 料為摻硼硅,厚度為4.5μm,表面覆蓋了一層同樣結(jié) 構(gòu)的1μm厚二氧化硅保護層。 壓敏電阻結(jié)構(gòu)下方為1 μm的絕緣二氧化硅層,20μm的應(yīng)變薄膜,底層為硅杯,硅杯底部與玻璃基底通過陽極鍵合。 圖 2 給出了外加100kPa 壓力、不引入電阻的薄膜應(yīng)變情況,σx 和 σy 分別為 x、y 方向上的應(yīng)力。 圖2表明應(yīng)變薄膜邊緣中央應(yīng)力最大,故一般優(yōu)先將壓敏 電阻放置在此。 圖3為引入長度50μm 的單條型電阻后應(yīng)力分布。 圖 2 薄膜應(yīng)力分布 根據(jù)圖 2、圖3中應(yīng)力分布,設(shè)計不同長度l、折疊數(shù)目n的壓敏電阻結(jié)構(gòu)并依次仿真,l、n 由邊緣中央 向薄膜中央和兩側(cè)進行增長。 結(jié)合式(3)得100 kPa、 6V輸入下傳感器輸出與電阻結(jié)構(gòu)n、l 的仿真擬合關(guān)系曲線,如圖4所示。 由圖4可知,Vout與傳感器結(jié)構(gòu) 圖 3 引入電阻后應(yīng)力分布 有關(guān),隨l的增大先升后降,75 μm左右時出現(xiàn)極大值;當(dāng)l足夠長時,Vout隨n增大而增加。 圖 4 Vout與 n、l 的關(guān)系 2 傳感器噪聲與信噪比分析 2.1 傳感器噪聲分析 壓力傳感器噪聲構(gòu)成復(fù)雜,主要由熱噪聲、閃爍 噪聲組成。 噪聲總的功率譜密度可以視為各噪聲功 率譜密度之和: 式中:VJ2和 Vf2分別為熱噪聲和閃爍噪聲功率譜密度。 熱噪聲又稱電阻噪聲,是由壓敏電阻中電荷載流 子由于隨機運動產(chǎn)生的,表現(xiàn)形式近似于白噪聲。 熱噪聲的功率譜密度與溫度有關(guān),與電阻所加電壓頻率無關(guān)。 其表達式為 式中:波爾茲曼常數(shù) K= 1.38×10 -23 J/ K;溫度 T= 300 K; R 為電阻阻值;ρ 為電阻率;w 為電阻寬度,w = 10 μm;t 為電阻厚度,t = 4.5 μm。 閃爍噪聲由器件的局部起伏引起發(fā)射電子緩慢 起伏導(dǎo)致,其功率譜密度與頻率成反比,通常出現(xiàn)在低頻范圍,計算公式為 式中:q 為摻雜濃度,q=1017cm -3 ;Vin為輸入電壓;N為 載流子數(shù)目;f為噪聲頻率;a為 Hooge 因子,是與傳感器制作工藝有關(guān)的參數(shù),通常10-7<a<10-3,根據(jù)傳感 器材料和摻雜濃度,本文取 10-5 。 根據(jù)式(5)、式(6)、式(7),得出了在 6V 恒壓輸 入、l為50μm、n 不同條件下,噪聲功率譜密度 V2 noise與 頻率f的關(guān)系,如圖5 所示;以及在6V恒壓輸入, 1 Hz處噪聲功率譜密度V2noise與壓敏電阻結(jié)構(gòu)n、l 的關(guān) 系,如圖6所示。 圖5V2 noise與f的關(guān)系 圖6 1Hz處V2 noise與n,l的關(guān)系 由圖5與圖6可知各結(jié)構(gòu)傳感器主要受閃爍噪聲影響。 其中低頻范圍由閃爍噪聲主導(dǎo),只有在高頻部分熱噪聲才會逐漸成為噪聲主要成分,且振幅很小。 在同一低噪聲頻率點上,噪聲功率譜密度隨著n,l的增加而減小。 2.2 傳感器信噪比分析 電路總噪聲為測量頻帶內(nèi)的噪聲功率譜密度之和,通過式(3)和式(5),信噪比SNR即Vout / Vnoise可以 表示為 式中 fmax和 fmin分別為噪聲的上下限截止頻率。 圖 7 顯示了在6V輸入、1~30Hz帶寬內(nèi)傳感器SNR 和n、l關(guān)系。 由圖7可知,信噪比受芯片結(jié)構(gòu)影響,其隨n的增大而增大,隨l的增大先升后降,最佳電阻長度一般出現(xiàn)在125μm左右。 圖 7 SNR 與 n,l 關(guān)系 3 實驗結(jié)果與分析 3.1 傳感器制備 本文采用標(biāo)準(zhǔn)MEMS工藝制作了傳感器芯片。 制作工藝流程主要包括以下步驟:清洗SOI硅片,離子注入,熱氧化形成保護層,光刻刻蝕壓敏電阻、接觸孔,濺射鋁,光刻刻蝕鋁、底部硅杯窗口,腐蝕硅杯,去除底部保護層,陽極鍵合玻璃基底。 經(jīng)上述工藝制備的傳感器芯片如圖8所示。 本文制得單條型芯片3個,長度分別為50、100、150μm;多 條型芯片長度固定為50μm,折疊條數(shù)分別為2,3,4, 6。 圖9給出了其中1個傳感器焊接金絲以及封裝完 成后的實物圖 。 3.2 氣壓測量標(biāo)定 。 標(biāo)定測試平臺如圖10所示,采用PLATINUM 真空氣壓泵和const162臺式氣壓泵分別產(chǎn)生0 ~ 100 kPa和100~300kPa的壓力載荷。 27 ℃室溫下,在壓力范圍0~300 kPa內(nèi),以步進為30 kPa 選取壓力載荷樣本點,輸出特性測試如圖11所示,圖11( a)為單條型,l不同的壓敏電阻輸出信號與氣壓關(guān)系,圖 11(b)為 l = 50 μm,n 不同的壓敏電阻輸出信號與氣壓關(guān)系。 由 圖 11 可以看出,在 0~ 300 kPa 量程范圍內(nèi),傳感器工 作良好,線性度較高。 圖 8 MEMS壓阻式壓力傳感器芯片 圖 10標(biāo)定測試平臺 3.3 傳感器噪聲測量 保持溫度不變,在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下恒壓源輸入,輸出信號Vout中存在來自多方面的噪聲,如電源噪聲、傳 感器本身的噪聲、測試儀器的噪聲、外界環(huán)境噪聲等。 為排除輸入端電源噪聲,使用電池作為電源;為降低 測試儀器的噪聲,本實驗使用HB-521 微弱信號檢測裝置中的鎖相放大器;為屏蔽外界電磁場干擾,使用 金屬屏蔽盒,各裝置之間使用同軸電纜作為導(dǎo)線連接。 實驗裝置如圖 12 所示。 將傳感器的輸出信號Vout接入HB-521 鎖相放大器中放大,鎖相放大器中心頻率設(shè)置15Hz,時間常數(shù)設(shè)為 10 ms。 使用 U 型,長度 50 μm 的壓力傳感器,在 標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下輸入 3、6、9、12 V 電壓,測得噪聲電壓 Vnoise的幅頻曲線如圖 13 所示。 圖 11 Vout輸出曲線 圖 12 噪聲測試實驗裝置圖 鎖相放大器測得的總噪聲包括傳感器噪聲、放大 器噪聲和電源噪聲,其關(guān)系可表示為 式中:Vsum 、Vsensor、Vamp 、Vpower 分別為總噪聲、傳感器噪 聲、放大器噪聲和電源噪聲。 在電源方面采用了噪聲很小的電池作為電源,其 噪聲可忽略,放大器噪聲可通過鎖相放大器直接測量 小電阻得到。 噪聲電壓 Vnoise與 l、n、Vin之間的關(guān)系如圖 14 所示。 (a)輸入 3 V,Vnoise幅頻曲線 (b)輸入 6 V,Vnoise幅頻曲線 (c)輸入 9 V,Vnoise幅頻曲線 (d)輸入 12 V,Vnoise幅頻曲線 圖 13 Vnoise幅頻曲線 (a)n = 1,l = 50、100、150 μm (b)n = 1、2、3、4、6,l = 50 μm 圖 14 Vnoise與 Vin關(guān)系 實驗發(fā)現(xiàn)閃爍噪聲是低頻段的主要噪聲源,與 Vin 成正比。 當(dāng) Vin過低,如輸入3 V 電壓時,受放大器噪 聲影響,Vnoise測量結(jié)果誤差較大,當(dāng)Vin較大時,噪聲測 量結(jié)果比較準(zhǔn)確。 從圖 14 可以看出,Vnoise與 Vin整體 成正比關(guān)系,同時 Vnoise隨 n、l 增大而減小。 根據(jù)測得的 Vnoise、Vout和式(8)可以得到信噪比與 電阻結(jié)構(gòu)關(guān)系,如圖 15 所示。 由圖可知 SNR 不隨 Vin 而改變。 Vin較低時由于 Vnoise難以精確測量,SNR 偏差 較大。 實驗測得的 SNR 與理論值差距在 20%之內(nèi),實 測值與理論值之間吻合度較好,證明理論分析的可 靠性 。 4 結(jié)論 本文對基于信噪比的 MEMS 壓力傳感器進行設(shè) 計與分析,首先通過 ANSYS 有限元模擬仿真各結(jié)構(gòu)傳 感器的應(yīng)力分布;其次采用 MEMS工藝設(shè)計制作了部 分傳感器芯片,并加工封裝;然后利用壓力發(fā)生裝置 對傳感器進行測試標(biāo)定;最后輸入不同電壓,探究 MEMS 壓阻式壓力傳感器的噪聲、信噪比與傳感器壓 敏結(jié)構(gòu)關(guān)系。 可得到以下結(jié)論: (1)通過模擬仿真發(fā)現(xiàn)傳感器壓敏結(jié)構(gòu)對噪聲、輸出信號和信噪比均存在影響。 增加壓敏電阻折疊 條數(shù)通常有助于獲得更低的噪聲以及更高的輸出信 號和信噪比,文中基于輸出信號和信噪比的最佳電阻 長度分別出現(xiàn)在 75 μm 和 125 μm 左右。 (2)本文通過實驗驗證了噪聲與輸入電壓成正比 關(guān)系,同時 Vnoise隨 n、l 增大而減小,SNR 不隨輸入電壓 變化而改變。 SNR 主要與傳感器結(jié)構(gòu)有關(guān),證明了理 論分析的正確性。 本文研究結(jié)果對于提高傳感器信 噪比、研制高精度傳感器具有一定的參考價值。 引用: [1]郝旭煥,常波,郝旭利。MEMS傳感器的發(fā)展現(xiàn)狀及應(yīng)用綜述[J]。無線互聯(lián)網(wǎng)技術(shù),2016(3):95-96。 [2]王銀,張家宏,李敏,等。一種新型硅壓阻式壓力傳感器的設(shè)計、制造及性能補償[J]。電子器件,2019,42(6):1371-1377。(中文) [3]吳培山,劉勤,李鑫,等。單晶硅高溫壓阻式壓力傳感器[J]。儀表技術(shù)與傳感器,2020(10):1-3。 [4]郝建宏,范宗豪,李毅。一種改進型梁島膜壓力傳感器的研究與設(shè)計[J]。儀表技術(shù)與傳感器,2019(4):10-14。 [6]張建軍,張建軍,張建軍,等;谠肼暅y量的壓力傳感器特性分析[J]。放射工程,2013,22(1):227-232。 [7]李建軍,李建軍,李建軍,等?紤]輸出信噪比的壓阻式壓力傳感器的設(shè)計優(yōu)化。[J] .微力學(xué)與微工程學(xué)報,2004,14(12):1597-1607。[8]張佳紅,陳建祥,毛曉麗,等。MEMS硅鋁非均質(zhì)壓力傳感器的設(shè)計、制造與測試研究[J]。傳感器技術(shù)學(xué)報,2018,31(7):998-1004。 [9]張建華,陳建新,李明,等。一種陣列型MEMS壓阻式智能壓力傳感器系統(tǒng)的設(shè)計、制造與實現(xiàn)[J]。微機械,2018,9:104。 [10]王衛(wèi)忠,何洪濤,卞玉民,等。一種MEMS高溫壓力傳感器[J]。微電子技術(shù),2016,53(6):387-393。(中文) [11]杜智,何建波;贛EMS的電阻式壓力傳感器設(shè)計[J]。儀表技術(shù)與傳感器,2019(6):19-22。 班寧產(chǎn)品匯總 |